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当前位置首页 » 关于我们 » 压电石英晶体技术资料 » 揭密石英晶振离子束刻蚀频率微调技术的优缺点

揭密石英晶振离子束刻蚀频率微调技术的优缺点

返回列表 来源:CEOB2B晶振平台 浏览:- 发布日期:2018-03-14 09:19:50【

1.3.3.3离子束刻蚀频率微调技术的优、缺点

  石英晶振本就是个制作工序复杂的一项频率元器件,每一工序都是按照最严格的标准,像离子束的刻蚀微调技术,还是存在着一定的优缺点的,下面就简单讲解一下关于离子束刻蚀微调技术的优缺点.

优点:(1)刻蚀成洁净的单层膜,可以提高频率特性与结合力;

(2)通过调节离子源的工作参数可方便地控制晶振工艺参数和刻蚀均匀性、重复性等问题。

缺点:(1)离子质量较大,不易于偏转扫描,因而产业低,生产效率不高;

(2)刻蚀后的几秒钟存在频率漂移现象,漂移可达10pm,此为离子束刻蚀频率微调的特有现象,其机制尚有待研究(见图1.7);

(3)刻蚀速度越快,频率漂移越大,因此刻蚀速度受到限制

(4)刻蚀过程中存在相位变化;

(5)高能离子束会对实时采样检测系统造成不定性干扰,进而影响石英晶体振荡器频率检测的准确性;

(6)离子束刻蚀过程中晶片表面存在温升,这样在放置在大气环境中前就需要较长的冷却时间。

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1.4论文的研究内容和章节安排

1.4.1论文的研究内容

针对上节提出的国内外石英晶振频率微调面临的几大难题,结合力所能及的研究条件,本论文主要对石英晶振的激光频率微调技术的以下几个部分内容进行研究:频率微调的可行性研究、激光刻蚀机理的研究、激光刻蚀工艺的研究、激光刻蚀系统的研究、激光刻蚀扩展性的研究。

第一部分频率微调的可行性研究,主要从理论和实验两个方面,证明将激光器用于贴片晶振的频率微调的可行性,并获取定量的刻蚀数据。